检索
高级检索
书目浏览
中图分类浏览
我的图书馆
新书通报
中图分类查看
精品图书
信息公告
全馆图书催还通知
所有标签
热门标签
借阅分析
图书借阅排行榜
热门图书排行榜
读者借阅排行榜
图书专题
图书荐购
历史荐购
读者荐购
征订书目
语言:
English
中文
登录
语言:
中文
English
登录
前方一致
模糊检索
精确检索
任意词
题名
正题名
ISBN/ISSN
著者
主题词
分类号
控制号
订购号
出版社
索书号
q=%E5%85%89%E5%88%BB&searchType=standard&isFacet=true&view=standard&rows=10&sortWay=score&sortOrder=desc&searchWay0=marc&logical0=AND
rows=10&searchWay0=marc&logical0=AND
名称:
描述:
公开/私有:
公开
私有
标题:
描述:
公开/私有:
公开
私有
检索词:
光刻
, 检索到: 37 条结果, 检索时间: 0.098 秒 , 排序选项:
匹配度
出版日期
主题词
题名
著者
索书号
题名拼音
借阅次数
续借次数
题名权重
正题名权重
卷册号
排序方式:
降序排列
升序排列
隐藏分类导航
隐藏趋势图
光刻
CADAL电子资源
集群图书馆
分类导航
T 工业技术
(31)
K 历史、地理
(3)
F 经济
(1)
O 数理科学与化学
(1)
P 天文学、地球科学
(1)
图书馆
梧州学院图书馆
(37)
显示更多..
馆藏地点
新书推介库(五楼中部大厅)
(18)
北区阅览室2
(8)
北区密集库2
(7)
工业类书库(四楼中部大厅)
(5)
原分馆书库
(2)
经济类书库(四楼南侧、五楼南侧)
(1)
流通库
(1)
西区图书馆
(1)
显示更多..
文献类型
图书
(37)
显示更多..
主题
集成电路工艺
(11)
研究
(7)
中国
(4)
中国历史
(3)
光刻设备
(3)
清代
(3)
电子束光刻
(3)
笔记
(3)
芯片
(3)
光刻系统
(2)
半导体工艺
(2)
微电子技术
(2)
生产工艺
(2)
紫外线
(2)
纳米材料
(2)
高等教育
(2)
ji cheng dian lu gong yi
(1)
ji xie jia gong
(1)
mos集成电路
(1)
产业发展
(1)
显示更多..
著者
(清) 梁廷枏撰
(3)
梁廷枏
(3)
王蔚
(2)
高伟民
(2)
(加) maria stepanova, steven dew编
(1)
(德) 安迪·爱德曼著
(1)
(德)w. menz,j.mohr,o.paul著
(1)
(德)门茨
(1)
(日) 佐藤淳一著
(1)
(日) 冈崎信次主编
(1)
(美) 哈利·杰·莱文森著
(1)
(美)stephen a. campbell著
(1)
(美)廉亚光著
(1)
(英)阿瑟·格林(w. arthur green)著
(1)
andreas erdmann
(1)
harry j. levinson
(1)
《半导体器件制造技术丛书》编写组编
(1)
上海无线电十七厂
(1)
上海无线电十七厂编
(1)
严利人
(1)
显示更多..
出版日期
2025
(2)
2024
(3)
2023
(10)
2022
(4)
2021
(4)
2020
(2)
2018
(1)
2017
(1)
2016
(1)
2012
(1)
2009
(1)
2008
(1)
2006
(1)
2004
(1)
2003
(1)
1972
(1)
1971
(2)
显示更多..
语言种类
汉语
(37)
显示更多..
在馆
在馆
(37)
显示更多..
新到时间
过去7天
(0)
过去30天
(0)
过去60天
(0)
过去90天
(0)
过去180天
(0)
超过180天
(37)
显示更多..
保存至书单:
创建新书单
共 4 页
首页
<上一页
1
2
3
4
下一页>
尾页>>
1.
封面仅供参考
光刻:《半导体器件平面工艺》
订购中
著者:
上海无线电十七厂编
出版社:
上海人民出版社
出版日期: 1971
文献类型:
图书 , 索书号:
P4/3
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
2.
封面仅供参考
光刻:《半导体器件平面工艺》
订购中
著者:
上海无线电十七厂
出版社:
上海人民出版社
出版日期: 1971
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7/2312
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
3.
封面仅供参考
光刻技术
订购中
著者:
《半导体器件制造技术丛书》编写组编
出版社:
国防工业出版社
出版日期: 1972
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7/9726
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
4.
封面仅供参考
光学光刻和极紫外光刻:a modeling perspective
订购中
著者:
(德) 安迪·爱德曼著
出版社:
上海科学技术出版社
出版日期: 2023
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7/A181
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
5.
封面仅供参考
先进计算光刻
订购中
著者:
李艳秋 ... [等] 著
出版社:
科学出版社
出版日期: 2024
文献类型:
图书 , 索书号:
TN405.98/L36
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
6.
封面仅供参考
极紫外光刻
订购中
著者:
(美) 哈利·杰·莱文森著
出版社:
上海科学技术出版社
出版日期: 2022
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7/L12
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
7.
封面仅供参考
激光热敏光刻:原理与方法:principle and method
订购中
著者:
魏劲松著
出版社:
清华大学出版社
出版日期: 2022
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7/W54
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
8.
封面仅供参考
计算光刻与版图优化
订购中
著者:
韦亚一[等]著
出版社:
电子工业出版社
出版日期: 2021
文献类型:
图书 , 索书号:
TN405.98/W45
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
9.
封面仅供参考
半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
订购中
著者:
(日) 冈崎信次主编
出版社:
机械工业出版社
出版日期: 2025
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7/G23
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
10.
封面仅供参考
折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用
订购中
著者:
张新宇
谢长生著
出版社:
国防工业出版社
出版日期: 2021
文献类型:
图书 , 索书号:
TN405.98/Z35
在馆信息
图书信息概览
图书目录
试读信息
内容简介
著者简介
共 4 页
首页
<上一页
1
2
3
4
下一页>
尾页>>